出水量0.25-100噸
工作壓力0.5-1.2MPa
出水水質10-0.055ux/cm
加工定制定制
規格型號PJ-RO-EDI-2000
是否進口否
工作原理反滲透/凈水
全自動控制全自動
用途范圍醫院、食品廠、化工廠、紡織廠等
壓力常壓
工作溫度0-40℃
除鹽率99%
適用水源各類地表 地下水
電池行業用超純水系統
1、種電池行業用超純水采用離子交換樹脂其優點在于初投資少,占用的地方少,但缺點就是需要經常進行離子再生,耗費大量酸堿,而且對環境有一定的破壞性。
2、第二種電池行業用超純水采用兩級反滲透設備,其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高,但無須樹脂再生。其缺點在于相關膜原件需定期清洗或更換,電池行業用超純水質相對來說不是太高,大都只能做到1us/cm左右,所以在不是要求更高的時候常采用一級反滲透后面再用混床(陰陽復床)把關。
3、第三種電池行業用超純水采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置,這是目前制取電池行業用超純水經濟,環保的超純水制備工藝,不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水,對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴
電子、半導體工業的芯片生產在制作過程中,往往需要使用其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話,會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。此外,晶元清洗和機械碾磨過程中都會產生廢水,造成對環境的污染。
通過使用超濾、反滲透、EDI和核子級離子交換系統來生產滿足需求的超純水。并將生產過程中所產生的廢水經過膜系統的處理進行回收再利用,在很大程度上減少了電子、半導體行業的用水量、降低了生產成本行業純水設備技術方案工業純水設備技術維修反滲透純凈水設備方案設計
微電子行業包括了電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、電子新材料生產等生產工藝,都需要工業超純水。傳統化學及介質過濾生產超純水的方法,會因在水中添加化學劑,制備過程冗長等因素造成產水的不穩定,無法確保長期、穩定的超純水。行業純水設備技術方案工業純水設備技術維修反滲透純凈水設備方案設計
采用“物理”凈化法(超濾→反滲透→EDI→拋光混床),使超純水制備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發生了一次革命,從此進入了一個無需再生化學品的時代。膜法制備出來的工業純水,其純度可達到18MΩ·CM,且系統穩定,使用壽命長,且生產過程所產生的廢水又可回用再生。
系統特點:
*該系統由單片機(PLC)控制,一切動作均在預設程序下自動進行,具備全自動功能(自動制水、自動沖洗、源水缺水/水箱滿水自動停機)。
*系統結構布置緊湊,占地面積小,有效節約空間。
*系統能耗低,有效節約能源。
*耗材壽命長,制水。
*系統運行可靠,供水管路封閉,出水水質穩定。
工藝簡介:
本工藝由以下部分組成:預處理、雙級反滲透(DRO)、連續電除鹽(EDI)、紫外線(UV)、拋光混床(MB)、終端微濾(MF)。
預處理部分由多介質過濾器、活性炭過濾器和全自動軟水器組成。
反滲透裝置主要由高壓泵、反滲透膜和控制部分組成。
反滲透技術是一種率、低能耗能、無污染的技術,主要應用于純水制備與海水淡化。反滲透技術是利用壓力差為動力的膜分離過濾技術,通過壓力差將H2O與源水中的無機鹽、重金屬離子、有機物、膠體、、等雜質嚴格分離。
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